 |
| Параметр | Значение |
|---|---|
| Производитель | IPG Photonics |
| Средняя мощность | 1 000 Вт |
| Длина волны | 1060 ± 10 нм |
| Длительность импульса | 100 нс |
| Максимальная частота | 100 кГц |
| Исполнение | Rack-mount (19") |
| Режим работы | Импульсный (наносекундный) |
| Охлаждение | Водяное |
| Стабильность мощности | ±2% |
| Интерфейс управления | RS232 / аналоговый |
| Рабочая температура | 10–40 °C |
| Питание | 200–240 В, 1 фаза |
IPG YLPN-100-100-1000-R — наносекундный импульсный волоконный лазерный источник IPG Photonics средней мощностью 1 000 Вт. Суффикс R означает rack-mount исполнение — источник выполнен в стоечном корпусе для встраивания в промышленные шкафы управления и производственные линии.
Длительность импульса 100 нс и средняя мощность 1 кВт при частоте до 100 кГц — оптимальное сочетание для промышленной лазерной очистки металлических поверхностей перед сваркой, пайкой и нанесением покрытий. Наносекундный импульс воздействует только на поверхностный слой загрязнений — подложка не нагревается, деформации исключены.
1 000 Вт средней мощности — высокая скорость очистки и абляции поверхностей в промышленном масштабе при минимальном термовложении.
Корпус 19" rack-mount — удобная интеграция в промышленные шкафы управления и автоматизированные производственные линии.
Длительность 100 нс — воздействие только на поверхностный слой без нагрева подложки. Чистая поверхность без деформации базового металла.
* Только сегодня! При запросе коммерческого предложения, дарим купон на скидку 25000 рублей. |
